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              第709章:中國光刻機的希望(2 / 2)

              只是一邊的張如京卻聽得不時拍手稱好,看到陳宇有一些無所事事,便問道:“感覺如何?”

              “沒感覺。”

              “怎么沒感覺?”

              “聽不懂。”

              “這也是,技術可能太復雜了,你畢竟不是專業搞芯片的。”

              “主要是我聽不懂他英語說的是什么。”

              “噗……”

              張如京目瞪口呆。

              但這也是。

              像這么專業的知識,別說是英語一般的,哪怕是英語很牛逼的也感覺是聽天書。

              不過,既然來了,雖然有些聽不懂,但陳宇也沒有提前離開。

              “這是日本佳能的技術大佬?”

              隨著一個一個技術大拿紛紛演講結束,這時,陳宇卻看到講臺上走上了一位黃皮膚黑眼睛的亞洲人。

              “不是,他是一位越南籍華人,他叫林本艱,祖上好像也是客家人,臺積電的技術大拿,在光刻機這一塊很有研究。”

              “噢。”

              陳宇點頭。

              他這一次來這里聽研討會的目的,不就是為了光刻機嗎?

              原本他以為,只要涉及到光刻機的,要么是荷蘭,要么是德國,要么是日本。

              沒想到,在光刻機領域竟然還有一位華人大拿。

              這一次,他倒要認真的聽了。

              但可惜。

              雖然林本艱會說中文,但在這樣的全球性研討會上,演講用的還是英語。

              與此前一樣,陳宇也感覺在聽天書。

              聽了好一會,陳宇只聽到干式,濕式什么的。

              “張總,那個林本艱說的干式和濕式是什么意思?”

              “說的是生產光刻機的一種技術工藝,目前我們大部分普遍用的是干式光刻機生產工藝。也就是用空氣做為鏡頭與晶圓間的介質,讓光罩上的圖形在晶圓上成象。不過,這個林本艱覺得,還可以用一種濕式工藝。”

              “什么是濕式?”

              “他說的這個濕式名字叫做浸潤式,與濕式差不多。但用的介質卻不一樣,我們一般現在用的是空氣,而林本艱提成了用水做為浸潤式的介質。”

              “水?”

              聽到水這個詞,陳宇陳宇有些激動。

              記得前世,其實在開始之初,荷蘭aslm與德國,與日本幾大光刻機公司實力都差不多。

              為什么后來aslm卻是一統天下,完全與這一些光刻機公司選擇的路線有關。

              當時日本,德國,包括美國這一些光刻機公司路線選擇出錯。

              而aslm卻是花重金開辟了另一條光刻機生產工藝。

              這個工藝,就涉及到水,也就是林本艱現在提到的浸潤式。

              “您覺得他的這個工藝有沒有前途?”

              陳宇不是很懂技術,但卻知道,這是決定未來光刻機命運的時刻。

              在前世2008年之后,全球90%以上生產出來的芯片,用的都是林本艱所提出來的濕式光刻工藝。并且,也正因為林本艱提出了這個濕式工藝,這才將芯片從190納米,一路做到了130納米,90納米,65納米,40納米,28納米,20納米,16納米,10納米,7納米,和5納米。甚至,連最為尖端的3納米,采用的都是林本艱的濕式光刻技術。

              “這個,說不準,理論上有可能,但里面還存在著一系列要解決的問題。比如,水會不會產生汽泡,水會不會污染設備,要怎么做防水,水遇熱會膨脹,折射率會改變,這又怎么解決……”

              張如京向陳宇述說著這一個濕式光刻工藝所面對的問題。

              只是,這個時候,陳宇的眼睛已經盯緊了林本艱。

              他知道。

              未來若干年之后,這一切的問題都不會成為問題。

              如果抓住這個林本艱,那么,中國光刻機就有希望了。

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