真空計示數達到5.2E-5帕，升溫程序也進入第二階段，一切正常。
十二分鐘后。
溫度示數達到400攝氏度，膜厚儀顯示的實時蒸鍍速率，在-0.01至0.01埃每秒之間波動，膜厚顯示仍為0.00埃。
三分鐘后。
溫度示數繼續增加，直至480攝氏度左右，蒸鍍速率開始在0.00至0.03埃每秒之間波動。
當溫度達到520攝氏度后，蒸鍍速率維持在0.20至0.30埃每秒。
許秋先開啟樣品臺旋轉，在等待了約十秒鐘后，同時打開樣品擋板并將膜厚儀的膜厚計數器歸零。
鈣要蒸鍍10納米的厚度，也就是100埃。
……
待膜厚儀示數達到100埃時，許秋迅速關閉樣品擋板。
隨后，他將束源爐升溫數控裝置關閉，讓束源爐自然降溫。
最后，將膜厚儀的參數改為鋁的參數。
……
半小時后。
束源爐的溫度降低至77攝氏度。
許秋關閉鈣的束源爐擋板，打開電流加熱裝置。
這個加熱裝置很簡單，就是把電源、鎢簍、電位器（類似于滑動變阻器）、保險絲、電流計連在一起，通過調節電位器，便可以改變電路中的電流大小。
許秋緩慢扭動電位器的旋鈕，使電流計示數從0逐漸增加至18安培。
當電流達到16安培時，膜厚儀上蒸鍍速率開始有了示數。
電流達到18安培后，許秋等待了幾秒，然后同時打開樣品擋板并清零膜厚儀的膜厚計數器。
蒸鍍速率則先是從0.2、0.3迅速提升至3.0，隨后迅速回落至1.8，之后緩緩下降至1.7，1.6埃每秒……
電流計的示數也會隨著時間變化，忽上忽下。
每當其相較于18的偏離值超過1時，許秋就將其調至18。
鋁的厚度要求是100納米，也就是1000埃。
……
待膜厚儀示數達到1000埃時，許秋迅速按下樣品擋板。
然后緩緩扭動電位器，將電流歸零。
接著關閉超真空擋板閥，停止分子泵。
等待十分鐘后，分子泵轉速從27000r.p.m.降至0，關閉其開關。
最后，關閉機械泵，關閉總控臺。
…………
“終于結束啦！”許秋長吁了一口氣，感慨道。
“這么多操作，居然零失誤，厲害呀！”陳婉清贊嘆道。
“這都是學姐教的好。”許秋道。
“行啦，別謙虛了，你的科研天賦我心里有數。
想想我當初學蒸鍍，可是沒少讓魏老師頭疼，不是忘記開空氣泵，就是忘開擋板，甚至還有一次忘記放基片了。”陳婉清道。
聽到最后一句，許秋沒忍住笑了出來。
看到學姐在瞪著他，他趕緊把笑容收斂住，面色嚴肅的向手套箱走去。
進入手套箱，許秋旋開艙門上下的旋鈕，開始拉艙門。
咦，艙門怎么拉不下來？
琢磨了一會兒，許秋明白了，因為蒸鍍結束后，艙體內部還是真空狀態。
于是他轉頭看學姐，可她似乎并沒有主動解答的意思。
這么記仇啊。
他只好問道：“學姐，這個怎么弄？”
陳婉清指了指手套箱側面，說道：
“那邊有一個接通氮氣瓶的閥門，可以往蒸鍍艙內充氮氣。”
許秋走過去，輕輕旋開閥門，“嘶嘶”的氣流聲傳來。
10秒后。
20秒后。
30秒后。
沒什么動靜啊。
“學姐，什么時候停下來呢？”許秋忍不住問道。
“繼續放氣。”陳婉清面無表情道。
“哦。”
40秒后。
50秒后。
60秒后，正當許秋打算再次發問時。
“砰！”